《微细加工技术》创刊于1983年,是国家科委和国家新闻出版署批准,国内外公开发行的中央级重要科技期刊。主要反映半导体集成电路制造业的新工艺和新设备,是该领域科研工作者和工作报告的园地,为科研人员和我国信息产业化、现代化服务。是国家一级检索刊物,已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录,是《中国期刊网》、《中国学术期刊(光盘版)》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊,是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主要栏目:综述、电子束技术、离子束技术、光子束技术、薄膜技术、微机械加工技术、纳米技术等。
本刊主要资助项目有:国家自然科学基金、国家高技术研究发展计划、国家重点基础研究发展计划、国家教育部博士点基金、国家重点实验室开放基金、山东省自然科学基金、中国科学院知识创新工程、中国博士后科学基金、上海市自然科学基金、中国科学院知识创新工程重要方向项目。
本刊主要资助课题有:国家自然科学基金(90307003)、山东省自然科学基金(Y2003G03)、国家重点基础研究发展计划(2003CB716204)、国家自然科学基金(59671051)、山东省科技攻关计划(022090105)、国家高技术研究发展计划(2004AA404260)、国家高技术研究发展计划(2003AA404150)、国家自然科学基金(10572078)、国家自然科学基金(50275140)、国家高技术研究发展计划(2003AA404140)。
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9.来稿所关涉的立项课题及需要志谢的有关人员,应以题注的形式标在正文首页下方。涉及的课题须注明课题名称和项目编号。
10.姓名在文题下按序排列,多作者稿署名时须征得其他作者同意,排序应在投稿时确定。接录用通知后不再改动。获得各项课题资助的来稿将优先发表(需要在稿件首页注明)。
| 机构名称 | 发文量 | 主要研究主题 |
| 中国科学院 | 192 | 光刻;电子束曝光;曝光机;电子束曝光机;掩模 |
| 上海交通大学 | 129 | 微机电系统;电系统;机电系统;MEMS;刻蚀 |
| 清华大学 | 60 | 微细;光刻;微细加工;离子束;聚焦离子束 |
| 中国科学技术大学 | 47 | 刻蚀;离子束;离子束刻蚀;光刻;衍射 |
| 电子工业部 | 46 | 离子注入;注入机;离子注入机;半导体;电路 |
| 中国科学院微电子研究所 | 38 | 光刻;掩模;X射线光刻;电子束曝光;分辨率 |
| 中国科学院长春光学精密机械与... | 34 | 光栅;MEMS;刻蚀;光刻;传感 |
| 山东大学 | 29 | 电子束;电子束曝光;曝光机;电子束光刻;电子束曝光机 |
| 山东工业大学 | 28 | 电子束曝光;曝光机;电子束曝光机;电子束;电路 |
| 华中理工大学 | 26 | 刻蚀;溅射;半导体;等离子体;离子束 |
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主编:伍三忠
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